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KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/C-67S-62 超声波清洗主要原理: 1.空化作用 2.加速度 3.物理化学的反应促进作用 超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、 HDD (媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、 橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、 金属零件

KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/6879BK 超声波清洗主要原理: 1.空化作用 2.加速度 3.物理化学的反应促进作用 超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、 HDD (媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、 橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、 金属零件

KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/PHENIX Ⅲ 超声波清洗主要原理: 1.空化作用 2.加速度 3.物理化学的反应促进作用 超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、 HDD (媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、 橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、 金属零件

KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/74802VS 超声波清洗主要原理: 1.空化作用 2.加速度 3.物理化学的反应促进作用 超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、 HDD (媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、 橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、 金属零件